德中（天津）精密装备有限公司，是一家以半导体、陶瓷薄膜电路加工技术、设备为核心，开发、生产以晶圆、陶瓷、铁氧体等为基材的清洗、电镀、化学镀、化学蚀刻等湿法加工设备，如：晶圆凸点化学镀Ni/Pd/Au(UBM)设备、超声波清洗设备、电镀设备、光刻胶显影、除胶设备等。硬件技术、软件技术、应用经验，是德中的技术基础，将三者有机结合，综合运用，使德中精密装备走上了守中报一的发展之路。德中精密装备的设备，拥有“窍门软件化，工艺经验产品化”的特色，凭借工艺经验、质量、环境、柔性、多功能五个方面的优势，不断地满足高端制造业和前沿研发活动对材料精密加工、微细加工日益增长的需求。

展出精品推荐1:德中CS系列 超声/兆声清洗设备

  1.产品要点：  

  28KHz-1MHz频率可选，拥有扫频、多频分时段清洗、多频率同时清洗等先进清洗技术，基板清洗更彻底；

  2.性能特点：  

  陶瓷、铁氧体、玻璃、蓝宝石、硅片是常见的电子器件基板材料，德中CS系列的超声波/兆声波清洗设备可在PVD、PCVD前，对这些基板进行清洁处理，确保基板表面洁净无污染，确保金属镀层与基体的结合力。超声、兆声、PVDF槽、水晶槽、不锈钢槽、QDR水洗、溢流水洗、脱水等可根据客户要求定制。

  德中超声清洗设备可集成如下清洗工艺：

— 强酸浸泡清洗；

— 有机溶剂超声清洗，如丙酮、酒精等；

— 超声酸洗功能；

— 超声碱洗功能；

— 水洗：如QDR快排水洗，溢流水洗等；

— 清洗液在线加热、N2在线加热等；

— 有机溶剂挥发检测、防火/灭火装置；

— 清洗槽与线外桶直接循环，新旧药液自动更替，24H生产。

  德中超声清洗设备其他功能：

— 清洗液自动配置、排放、补加、更换功能;

— 溶液温度、处理时间程序化控制；

  槽体材质：PVDF\PTFE\PPH\不锈钢304-316等

展出精品推荐2：德中TP系列 电镀/电镀填孔设备

1.产品要点：

  采用独特的射流技术，镀层均匀性好，效率高，适合铜、镍、金、银、锡等多种金属电镀，同时适合晶圆凸点、陶瓷填孔电镀；

2.产品介绍：

德中TP350/450/650系列电镀设备，采用独特的夹具设计，适合陶瓷、铁氧体、玻璃等电子基板在PVD/PCVD后进行表面电镀金属加厚，液适合晶圆凸点电镀。可电镀铜、镍、金、锡、银等各种金属；对于不同的金属镀层，厚度从0.5µm到300µm均可实现；软件提示半自动操作、行车全自动运行等操作模式，均可根据客户需求定制；直流电镀、直流脉冲电镀、反向脉冲电镀可选。

  该设备采用独特的射流技术进行电镀，工件作为阴极，浸泡在电镀液中的同时，电镀溶液从左、右两侧强力喷射向阴极，该设备也适合在陶瓷、硅片等基板上进行填孔电镀。射流电镀技术的优势：

n 阴极、阳极间离子交换速度更快，整槽内离子浓度更加均匀，完全消除浓差极化；

n 电流密度更高，电镀效率可提高30-40%；

n 孔内溶液交换快，适合小孔、微孔、盲孔等板厚/孔径比大的基板电镀，表面和孔内镀层厚度更趋一致；

n 基板前后摆动，配合独特的喷射结构，整个基板表面、所有基板孔的喷射效果均匀、一致；

n 电镀厚度均匀性＜ 10%；

n 可两面施加相同或不同的电镀电流，两面镀层厚度一致或不同；

n 电镀液喷射流量可调，喷射系统距离阴极距离可调，适合陶瓷、HDI板等基板的填孔电镀。

展出精品推荐3：德中EU系列 化学蚀刻设备

1.产品要点：

  垂直喷淋技术、浸泡+溢流+抛动技术。多种蚀刻方式，适合不同厚度金属膜层。完全避免“水池效应”，精度高，侧蚀小，一致性好；

2.产品介绍：

  一.喷淋蚀刻设备：EU450V

EU450V是一款垂直、喷淋、往复传动蚀刻设备，基板专用夹具带动陶瓷，垂直进入蚀刻区，被雾化的蚀刻液从前、后两侧同时喷淋腐蚀，再经过水洗、风干，完成蚀刻；

n 两面同时蚀刻，两面效果均匀一致；

n 非接触、无阻挡式化学蚀刻设备，整个蚀刻过程传动机构与陶瓷无物理接触，对光刻胶、精细线路无损伤；

n 强力喷淋有利打破精细线路的“微观水池效应”，更加适合精细线路蚀刻；

n 蚀刻液与基板接触发生蚀刻反应后，由于自身重力自动脱离基板表面，完全避免了水平上蚀刻中的“水池效应”，整板蚀刻效果一致，精度高，侧蚀小；

蚀刻方式分两种：

—直接蚀刻：基板进入蚀刻区前，蚀刻液喷淋，基板直接穿过蚀刻区；

—往复蚀刻：基板进入蚀刻区前蚀刻液不喷淋，当基板进入并停止在蚀刻仓中间，基板开始在蚀刻仓内左右摆动，同时蚀刻液开始喷淋。蚀刻时间可以很短，也可以很长，非常适合超厚金属蚀刻；

n 既能针对超薄金属的蚀刻，又能蚀刻超厚金属，小身材，大用处；

n 配置适合陶瓷、FPC、微波电路板的专业夹具，适合多种应用；

占地小，投资回报率高。

展出精品推荐４：德中DU系列 光刻胶显影设备

1.产品要点：

  浸泡+溢流+抛动、浸泡+旋转技术可选。多种方式，适合多种光刻胶显影；

2.产品介绍：

浸泡+抛动+溢流 显影设备：DU350/450/650

基板放置在显影盒中（与蚀刻盒通用），采用浸泡+溶液自下而上溢流+基板抛动方式进行蚀刻，适合多种光刻胶显影，如TMAOH、NaOH等。

陶瓷、玻璃、晶圆等基板被固定在装载夹具上，基板可以是圆形，也可以是方形，2英寸-8英寸均适用。装载夹具浸泡在蚀刻溶液中，显影液自上而下涌动、溢流，基板抛动。其特点是：

n 显影液在基板表面充分交换，保证新鲜的蚀刻液与金属膜层发生蚀刻反应，每片基片、基片上每点蚀刻速度一致；

n 基片装载夹具、槽体，均可采用316L/PTFE材质；

n 一台设备中可配置多个显影槽，配合水洗槽，可大大提高生产效率；

n 显影槽设计有自动槽盖（选项），减少药液挥发；

n 显影槽底部设计有均流板，通过均流板显影液上涌，显影槽采周溢流方式，通过管路与线外桶连接；

n 不工作时显影液可存储在线外桶内，防止显影液遭受污染；

n 显影液的更换更加简单，直接更换线外桶即可；

n 可在不停产状态下更换显影液，实现7×24H连续生产；

n 药液涌动的流速、压力可调，确保均匀一致的显影效果；

n 抛动行程可调，确保均匀一致的显影效果；

n 设备槽体、管路、阀门全部采用适合高纯液体的材质和部件，确保不会污染工件；

n 可生成生产日志，所有工件的工艺参数均可记忆、导出、备查，也可实现远程监控功能；

n 全自动设备、软件提示手动操作均可，适合不同的客户需求。

展出精品推荐5：德中SU系列 光刻胶除胶设备

1.产品要点：

  浸泡+溢流+抛动、浸泡+旋转技术可选。多种方式，适合多种光刻胶除胶；

2.产品介绍：

  浸泡+抛动+溢流 除胶设备：SU350/450/650

基板放置在清洗盒中（与蚀刻盒通用），采用浸泡+溶液自下而上溢流+基板抛动方式进行除胶，适合多种除胶液，如丙酮、NaOH等。如用丙酮除胶，一般采用二步除胶法，以便能彻底干净地将感光胶去除，工艺流程如下：

   陶瓷、玻璃、晶圆等基板被固定在装载夹具上，基板可以是圆形，也可以是方形，2英寸-8英寸均适用。装载夹具浸泡在除胶溶液中，除胶液自上而下涌动、溢流，基板抛动。其特点是：

n 除胶液在基板表面充分交换，保证新鲜的除胶液与基板接触；

n 基片装载夹具、槽体，均可采用316L不锈钢加电解抛光处理；

n 一台设备中可配置2个除胶槽，配合水洗槽，可大大提高生产效率；

n 除胶槽设计有自动槽盖（选项），减少药液挥发；

n 除胶槽底部设计有均流板，通过均流板除胶液上涌，除胶槽采周溢流方式，通过管路与线外桶连接；

n 不工作时除胶液可存储在线外桶内，防止除胶液遭受污染，也防止除胶液的挥发；

n 除胶液的更换更加简单，直接更换线外桶即可；

n 可在不停产状态下更换除胶液，实现7×24H连续生产；

n 药液涌动的流速、压力可调，确保均匀一致的除胶效果；

n 抛动行程可调，确保均匀一致的除胶效果；

n 设备内部安装有机物挥发浓度传感器，浓度超标会自动启动排风；

n 设备内部安装火焰探测和灭火装置，发生火灾自动灭火；

n 可生成生产日志，所有工件的工艺参数均可记忆、导出、备查，也可实现远程监控功能；

n 全自动设备、软件提示手动操作均可，适合不同的客户需求。

  欢迎各位届时莅临CAC 2023广州先进陶瓷产业链展览会，德中（天津）精密装备有限公司——展位号：B625，现场了解更多相关信息。